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我国自主研发光刻机交付，突破10nm工艺

我国自主研发光刻机交付，突破10nm工艺
据报道，近日，我国自主研发的首台PL-SR系列喷墨步进式纳米压印设备已顺利通过验收并交付国内特色工艺客户。这一里程碑事件标志着我国在高端半导体装备制造领域迈出坚实步伐，成功打破国外厂商在该领域的技术垄断。
  • 发表于 2025-08-06 02:16
  • 阅读 ( 9870 )
  • 分类：美食

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