国产EUV光刻胶取得重要进展，有望打破海外垄断

欢迎加入宝宝计划-计划之家-软件官网下载社区

近日，清华大学化学系许华平教授团队在极紫外（EUV）光刻材料上取得重要进展，开发出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶。此前EUV光刻胶国产化率近乎为0，清华方案为国产EUV光刻胶提供可工程化路径，有望打破日本JSR、东京应化等巨头的垄断。