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清华大学团队在EUV光刻材料上取得重要进展,为下一代EUV光刻胶开发提供可行路径
清华大学团队在EUV光刻材料上取得重要进展,为下一代EUV光刻胶开发提供可行路径
据报道,清华大学官网介绍,日前,清华大学化学系许华平教授团队在极紫外(EUV)光刻材料上取得重要进展,开发出一种基于聚碲氧烷的新型光刻胶,为先进半导体制造中的关键材料提供了新的设计策略。这一光刻胶由单组分小分子聚合而成,在简洁设计下整合理想特性,为下一代EUV光刻胶的开发提供了可行路径。
发表于 2025-07-24 09:20
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